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4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV
OTF-1200X-4-RTP-HV安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)2、电
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小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP
表操作视频RTP升温速率演示视频 直接升温曲线 分段升温曲线 产品型号小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh
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可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL
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可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL
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可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL
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Suna实验室常用设备 SC-4-10
发布时间:2022年10月衍射实验中的一个关键参数是信噪比和相关可实现的分辨率。Suna硅片允许以最小的背景散射水平进行衍射实验。根据芯片的尺寸和几何形状,它们可以容纳200000个微晶
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Suna实验室常用设备SC-4-10
发布时间:2022年10月衍射实验中的一个关键参数是信噪比和相关可实现的分辨率。Suna硅片允许以最小的背景散射水平进行衍射实验。根据芯片的尺寸和几何形状,它们可以容纳200000个微晶
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其它实验室常用设备
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1000℃小型RTP炉--OTF-1200X-4-RTP
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4" 石英管和真空法兰, 它是专为半导体或太阳能电池基片(最大达3“)的退火而设计,采用10KW红外灯管加热最快升温速度为 50
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Suna实验室常用设备SC-25-45
发布时间:2022年10月衍射实验中的一个关键参数是信噪比和相关可实现的分辨率。Suna硅片允许以最小的背景散射水平进行衍射实验。根据芯片的尺寸和几何形状,它们可以容纳200000个微晶
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